典型文献
抛光工艺对晶片表面粗糙度的影响
文献摘要：
介绍了碲锌镉晶片抛光机的工艺过程和原理,研究了抛光工艺中抛光液粒度、抛光压力、抛光液流量和工作台转速对晶片表面粗糙度及平整度的影响,并提出了提高晶片抛光加工表面质量的方法和实际加工效果.
文献关键词：
碲锌镉;抛光工艺;粗糙度
中图分类号：
作者姓名：
郭东;张文斌;刘国敬;赵祥
作者机构：
中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京 100176
文献出处：
引用格式：
[1]郭东;张文斌;刘国敬;赵祥-.抛光工艺对晶片表面粗糙度的影响)[J].电子工业专用设备,2022(03):40-42,68
A类：
碲锌镉晶片
B类：
抛光工艺,表面粗糙度,抛光机,工艺过程,抛光液,光压,工作台,平整度,加工表面质量,实际加工,加工效果
AB值：
0.274996
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