典型文献
热处理对溅射在金属探针上的铂薄膜的影响
文献摘要：
研究了退火温度对铂薄膜微观结构和电学性能的影响.在高曲率微小金属探针表面原位制造铂薄膜温度探测器,在450,500,550℃条件下进行退火.研究了不同厚度SiO2薄膜对铂薄膜表面形貌的影响,重点介绍了经过不同温度退火后铂薄膜表面形貌和电学性能变化及其两者之间的相关性.实验结果表明:在金属探针表面制备2μm的SiO2薄膜,既可以达到绝缘的效果,也可以保证粘附性.铂薄膜温度探测器初始电阻值、灵敏度和迟滞都有较大提高.但温度越高,对铂薄膜温度探测器的线性度影响越小.由于初始电阻值的变化幅度明显大于斜率ΔT/ΔR的变化幅度,所以电阻温度系数(TCR)均减小.因此,利用接近式光刻技术直接在高曲率物体表面制备金属薄膜,经过退火处理后可以得到稳定性高,响应速度较快、热阻性能较好的铂薄膜温度探测器.
文献关键词：
铂薄膜;微观结构;电学性能;金属探针;原位;电阻温度系数
中图分类号：
作者姓名：
雷程;冯伟;梁庭;齐蕾;熊继军
作者机构：
中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室,山西太原030051;北方自动控制技术研究所,山西太原030006
文献出处：
引用格式：
[1]雷程;冯伟;梁庭;齐蕾;熊继军-.热处理对溅射在金属探针上的铂薄膜的影响)[J].传感器与微系统,2022(02):9-13
A类：
B类：
热处理,溅射,金属探针,铂薄膜,退火温度,电学性能,曲率,小金,温度探测,探测器,SiO2,表面形貌,性能变化,表面制备,绝缘,粘附性,电阻值,迟滞,线性度,电阻温度系数,TCR,光刻技术,接在,物体表面,金属薄膜,退火处理,响应速度,热阻
AB值：
0.269194
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