典型文献
磁控溅射法制备ITO膜层及其光电性能研究
文献摘要：
利用直流磁控溅射法在有机玻璃基底上沉积掺杂氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,在室温条件下,研究了溅射功率、溅射气压、靶基距和氧氩流量比等工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响.结果表明,ITO薄膜的透光率随溅射功率和靶基距的增大而减小,当溅射功率为110W、靶基距为70mm时,ITO薄膜的透光性和导电性较为优良.在近紫外光波段和近红外光波段,ITO薄膜的透光率随溅射气压的增大而减小.当氧氩流量比为4:30时,ITO薄膜在500nm到600nm可见光范围内的透光性和综合性能最好.
文献关键词：
ITO薄膜;直流磁控溅射法;溅射功率;溅射气压;光电性能
中图分类号：
作者姓名：
张健;齐振华;李建浩;牛夏斌;徐全国;宗世强
作者机构：
沈阳化工大学机械与动力工程学院,辽宁 沈阳 110142
文献出处：
引用格式：
[1]张健;齐振华;李建浩;牛夏斌;徐全国;宗世强-.磁控溅射法制备ITO膜层及其光电性能研究)[J].真空,2022(06):45-50
A类：
B类：
ITO,膜层,光电性能,直流磁控溅射法,有机玻璃,玻璃基,掺杂氧化铟,氧化铟锡,透明导电薄膜,溅射功率,溅射气压,流量比,透光率,110W,70mm,透光性,导电性,紫外光,光波,波段,近红外光,500nm,600nm,可见光
AB值：
0.265789
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