典型文献
HiPIMS的放电特性及其对薄膜结构和性能的调控
文献摘要：
磁控溅射过程中的等离子体密度和离化率这些等离子体微观放电特性强烈影响着沉积薄膜的微观结构和性能,高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)凭借其较高的溅射粒子离化率的优势引起了广泛的研究和关注.为了探究HiPIMS的高离化率的产生原因和过程,掌握高功率脉冲磁控溅射技术对薄膜微观结构和性能的调控规律,从一般的磁控溅射技术原理出发,分析HiPIMS高离化率的由来及其与DC磁控溅射相比的技术优势,着重总结HiPIMS的宏观放电特点和微观等离子体特性;总结梳理近几年HiPIMS在硬质膜和透明导电薄膜领域的应用研究,明晰HiPIMS对薄膜微观晶体结构的影响及其对薄膜的力学、光电性能等的调控规律及其优势.HiPIMS独特的等离子体-靶相互作用,可以有效改善薄膜结晶特性,实现对光电性能的可控调控.
文献关键词：
磁控溅射;高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS);离化率;硬质膜;透明导电薄膜
中图分类号：
作者姓名：
李坤;高岗;杨磊;夏菲;孙春强;滕祥青;张宇民;朱嘉琦
作者机构：
哈尔滨工业大学特种环境复合材料技术国家级重点实验室 哈尔滨 150001;哈尔滨工业大学分析测试中心 哈尔滨 150001;哈尔滨工业大学微系统与微结构制造教育部重点实验室 哈尔滨 150001
文献出处：
引用格式：
[1]李坤;高岗;杨磊;夏菲;孙春强;滕祥青;张宇民;朱嘉琦-.HiPIMS的放电特性及其对薄膜结构和性能的调控)[J].中国表面工程,2022(05):42-55
A类：
高离化率
B类：
HiPIMS,放电特性,薄膜结构,结构和性能,等离子体密度,高功率脉冲磁控溅射技术,产生原因,调控规律,技术原理,由来,DC,等离子体特性,硬质膜,透明导电薄膜,晶体结构,光电性能,膜结晶,结晶特性,可控调控
AB值：
0.157891
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
