典型文献
ITO/PET衬底上掠射角溅射沉积WO3薄膜及其电致变色性能
文献摘要：
采用直流磁控反应溅射法,以不同掠射角度在ITO/PET衬底上沉积WO3薄膜.利用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和能谱仪(EDS)对WO3薄膜表面和断面的形貌及化学组成进行表征;利用电化学工作站和紫外分光光度计对WO3薄膜的电化学性能和光学性能进行分析.结果表明,当掠射角α＞60°时,薄膜表面形成类似于山峰状形貌,断面为纳米斜柱状结构,该结构有利于离子和电子的迁移.当掠射角α=80°时,沉积的WO3薄膜具有最快离子扩散速率和最大光调制幅度,着色效率达到27.05 cm2/C.同时,薄膜还表现出快速响应和良好循环稳定性.
文献关键词：
WO3薄膜;ITO/PET衬底;直流磁控反应溅射;掠射角;电致变色性能
中图分类号：
作者姓名：
王冠杰;王美涵;文哲;魏丽颖;雷浩;孙立贤;徐芬
作者机构：
沈阳大学,辽宁沈阳110044;铝谷产业技术研究院,山东邹平256200;桂林电子科技大学,广西桂林541004
文献出处：
引用格式：
[1]王冠杰;王美涵;文哲;魏丽颖;雷浩;孙立贤;徐芬-.ITO/PET衬底上掠射角溅射沉积WO3薄膜及其电致变色性能)[J].稀有金属材料与工程,2022(04):1448-1454
A类：
直流磁控反应溅射
B类：
ITO,PET,衬底,掠射角,溅射沉积,WO3,电致变色性能,溅射法,场发射扫描电子显微镜,FE,能谱仪,EDS,化学组成,电化学工作站,紫外分光光度计,电化学性能,光学性能,山峰,斜柱,柱状结构,离子扩散速率,大光,光调制,着色,快速响应,循环稳定性
AB值：
0.266129
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