典型文献
射频溅射功率对Mn-Co-Ni-O薄膜结构与性能的影响
文献摘要：
采用射频磁控溅射技术在硅衬底上制备了锰钴镍氧(Mn-Co-Ni-O,MCNO)薄膜并进行了后退火处理.利用X射线衍射、扫描电子显微镜、光学测试仪器等测试手段对晶体结构、表面形貌及光学性能进行表征.分析了不同射频溅射功率(60～100 W)对MCNO薄膜表面微观形貌、晶体结构和光学性能的影响.结果表明,在60～90 W下获得的薄膜表面致密且均匀,但在100 W下获得的MCNO薄膜表面晶粒尺寸显著增大.物相分析表明,采用射频磁控溅射沉积的MCNO薄膜主要为尖晶石结构,溅射功率对薄膜结晶质量和择优取向具有显著影响,在80 W下获得的MCNO薄膜结晶质量最佳.同时,拉曼光谱测试也表明该MCNO薄膜表现出最强的Mn4+—O对称弯曲振动和最小的压应力.紫外-可见-近红外光谱分析表明,MCNO薄膜的吸光范围主要在可见光-近红外波段,在80～90 W溅射功率下获得的MCNO薄膜在近红外波段表现出更强的吸收峰.射频溅射功率的改变会影响薄膜的厚度和结晶质量,从而对薄膜的光学带隙起到调控作用.光致发光光谱测试不同溅射功率下薄膜的缺陷峰发光强度,且在功率为80 W时沉积的薄膜具有最强紫外发射峰,表明改变溅射功率能够有效改善薄膜缺陷及提高晶体质量.
文献关键词：
锰钴镍氧薄膜;射频磁控溅射;后退火;溅射功率;结构性能;光学性能
中图分类号：
作者姓名：
刘丽华;赵晶晶;秦彬皓;杨为家;王海燕
作者机构：
五邑大学应用物理与材料学院,江门 529020;广东省科学院中乌焊接研究所,广州 510651
文献出处：
引用格式：
[1]刘丽华;赵晶晶;秦彬皓;杨为家;王海燕-.射频溅射功率对Mn-Co-Ni-O薄膜结构与性能的影响)[J].人工晶体学报,2022(08):1361-1369,1377
A类：
MCNO,锰钴镍氧薄膜
B类：
射频溅射,溅射功率,Co,薄膜结构,结构与性能,射频磁控溅射,磁控溅射技术,硅衬底,后退火,退火处理,光学测试仪器,试手,晶体结构,表面形貌,光学性能,表面微观形貌,晶粒尺寸,物相分析,溅射沉积,尖晶石结构,膜结晶,结晶质量,择优取向,拉曼光谱,Mn4+,弯曲振动,压应力,近红外光谱分析,吸光,可见光,近红外波段,吸收峰,光学带隙,光致发光光谱,发光强度,晶体质量,结构性能
AB值：
0.241581
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