典型文献
离子束刻蚀改善膜厚均匀性的研究(特邀)
文献摘要：
为了提高光学透镜表面的膜厚均匀性,用离子束刻蚀原理修正膜厚均匀性,用法拉第探针测试不同参数离子源的离子束密度,并研究不同离子束密度对Ti3O5膜层均匀性的影响.采用电子束与离子辅助沉积技术在未安装修正挡板的三级公自转行星盘真空镀膜机进行实验,对测试结果用Optilayer进行膜厚拟合,并用Zygo干涉仪测量粗糙度,分析离子束刻蚀对透镜表面形貌的影响.结果表明通过离子束的刻蚀,可见光波段Ti3O5单层膜的均匀性为0.36％,粗糙度由0.036 nm变为0.037 nm.
文献关键词：
光学薄膜;膜厚均匀性;离子束刻蚀;三级公自转行星系统;光学透镜
中图分类号：
作者姓名：
付秀华;王一博;潘永刚;何云鹏;任海峰
作者机构：
长春理工大学 光电工程学院,长春 130022;长春理工大学中山研究院,广东 中山 528436;光驰科技(上海)有限公司,上海 200444
文献出处：
引用格式：
[1]付秀华;王一博;潘永刚;何云鹏;任海峰-.离子束刻蚀改善膜厚均匀性的研究(特邀))[J].光子学报,2022(09):49-60
A类：
法拉第探针,修正挡板,三级公自转行星系统
B类：
离子束刻蚀,膜厚均匀性,特邀,光学透镜,同参数,离子源,同离子,Ti3O5,膜层,电子束,离子辅助沉积,沉积技术,装修,星盘,真空镀膜机,Optilayer,Zygo,干涉仪,粗糙度,表面形貌,明通,可见光波段,单层膜,光学薄膜
AB值：
0.291252
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