典型文献
辅助阳极在电弧离子镀和磁控溅射技术中的应用和研究进展
文献摘要：
按照位置分类,概述了3类辅助阳极.第1类布置在阴极附近,能起到吸引电子,增大离化率,并降低沉积温度的效果,同时若有带负电的离子,也会被吸引至阳极;第2类布置在基片的背面,在吸引电子达到阳极的过程中,会增大基片附近工艺气体和沉积物的离化率,正离子在负偏压的引导下会和基底发生碰撞,达到基底活化或者提高膜层质量的目的;第3类为特殊工件类,如管内壁镀膜时通过辅助阳极的布置,提高管腔内等离子体的均匀性,从而增加膜层厚度和质量的一致性.辅助阳极的增加只需在真空室特定位置布置特定形状的阳极即可,即使需要额外引线,只需一个接线法兰口就能完成,非常方便.辅助阳极加载的正电压一般在0至几百伏之间,如果是0,则直接和真空腔室连接即可,必要时串联电阻.辅助阳极技术具有改变离子能量和方向的特点,能起到对大颗粒的抑制作用,能改变到达膜层表面离子的能量,对膜层质量的提高具有重要意义,值得推广.
文献关键词：
辅助阳极;电弧离子镀;磁控溅射;离化率;大颗粒过滤
中图分类号：
作者姓名：
赵栋才;邱家稳;肖更竭;张子扬
作者机构：
安徽工业大学 先进金属材料绿色制备与表面技术教育部重点实验室,安徽 马鞍山 243002;中国空间技术研究院,北京 100094;兰州空间技术物理研究所,兰州 730000
文献出处：
引用格式：
[1]赵栋才;邱家稳;肖更竭;张子扬-.辅助阳极在电弧离子镀和磁控溅射技术中的应用和研究进展)[J].表面技术,2022(11):174-185
A类：
大颗粒过滤
B类：
辅助阳极,电弧离子镀,磁控溅射技术,阴极,离化率,低沉,沉积温度,负电,至阳,基片,背面,工艺气体,沉积物,正离子,负偏压,工件,管内壁,镀膜,管腔,膜层厚度,真空室,特定位置,定形,引线,接线,法兰,正电,几百,空腔,腔室,串联电阻,离子能量,变到
AB值：
0.332349
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