典型文献
高功率脉冲磁控溅射管内壁沉积Cr薄膜结构及性能
文献摘要：
由于管腔空间限制,物理气相沉积领域中管内壁沉积薄膜的均匀性和质量有待研究和改善.采用高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)在直径40 mm、长度120 mm的20#碳钢管内表面进行Cr薄膜沉积,并探究管内不同位置沉积Cr薄膜的结构和力学性能.采用SEM分析薄膜的截面形貌和厚度变化,采用AFM分析薄膜的表面形貌和表面粗糙度变化,采用XRD分析薄膜的晶相结构和晶粒尺寸,采用球-盘式旋转摩擦磨损试验机对薄膜的耐摩擦磨损性能进行测试.结果表明,随着管内深度的增加,距管口距离为15 mm(位置1)、45 mm(位置2)、75 mm(位置3)和105 mm(位置4)位置的膜层厚度分别为1690 nm、827 nm、210 nm和0 nm.从位置1到位置3,所沉积的Cr薄膜表面粗糙度由12.6 nm下降到4.8 nm,晶粒尺寸由15 nm增加到38 nm,摩擦因数由0.68上升到0.89.
文献关键词：
高功率脉冲磁控溅射;管内壁;Cr薄膜;微观结构;力学性能
中图分类号：
作者姓名：
吴厚朴;田修波;郑林林;巩春志;张辉
作者机构：
哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室 哈尔滨 150001
文献出处：
引用格式：
[1]吴厚朴;田修波;郑林林;巩春志;张辉-.高功率脉冲磁控溅射管内壁沉积Cr薄膜结构及性能)[J].中国表面工程,2022(05):210-216
A类：
管口距
B类：
管内壁,薄膜结构,管腔,物理气相沉积,高功率脉冲磁控溅射技术,HiPIMS,20#,碳钢管,内表面,薄膜沉积,不同位置,截面形貌,AFM,表面形貌,表面粗糙度,晶相结构,晶粒尺寸,盘式,摩擦磨损试验机,耐摩擦磨损性能,膜层厚度,摩擦因数
AB值：
0.232594
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