典型文献
不同负偏压下多弧离子镀TiAlN薄膜的微观结构与耐腐蚀性研究
文献摘要：
目前,关于负偏压对电弧离子镀TiAlN薄膜耐腐蚀性能影响的研究较少,为此,采用电弧离子镀技术在M2高速钢上沉积TiAlN薄膜,分别采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、电化学实验等方法研究基体负偏压量对薄膜表面形貌、组织结构和耐腐蚀性的影响.结果表明:负偏压是影响电弧离子镀TiAlN薄膜表面形貌的一个重要工艺参数.适当的负偏压能有效改善表面薄膜形貌及致密性,降低表面大颗粒熔滴尺寸及数量.TiAlN薄膜主要相为AlTi3N(111)、薄膜主要沿着(111)方向生长.增加负偏压会发生新反应,出现Ti2AlN(100)衍射峰.随着基体负偏压的增大,薄膜的显微硬度呈先增加后减小的趋势.当负偏压在150 V时,薄膜具有最大的硬度值,为2 725 HV.当负偏压工艺为150 V时,薄膜的相对腐蚀速率最小,耐腐蚀性最好.
文献关键词：
负偏压;多弧离子镀;TiAlN薄膜;微观结构;耐腐蚀性
中图分类号：
作者姓名：
赵磊;梁启超;刘传龙;王天国
作者机构：
十堰市工业产品质量检验检测所,湖北 十堰 442002;湖北汽车工业学院材料科学与工程学院,湖北十堰 442002
文献出处：
引用格式：
[1]赵磊;梁启超;刘传龙;王天国-.不同负偏压下多弧离子镀TiAlN薄膜的微观结构与耐腐蚀性研究)[J].材料保护,2022(10):118-122
A类：
AlTi3N
B类：
负偏压,多弧离子镀,TiAlN,电弧离子镀,耐腐蚀性能,离子镀技术,M2,高速钢,电化学实验,表面形貌,面薄,薄膜形貌,致密性,大颗粒,熔滴,Ti2AlN,显微硬度,硬度值,HV,腐蚀速率
AB值：
0.204284
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