典型文献
基于高功率脉冲磁控溅射的Cr膜层研究进展
文献摘要：
Cr膜层因其优异的耐高温、耐腐蚀和耐磨损性能,在航空航天、武器装备和核电能源等领域得到广泛应用.由于传统电镀硬铬技术具有一定的污染,人们一直致力于寻找一种无污染的高性能Cr膜层制备方式.具备清洁特性的物理气相沉积技术,尤其是具有高离化率和高结合力特点的高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术现已成为膜层研究领域的热点.介绍HiPIMS-Cr靶的放电特性,指出在Cr膜沉积过程中获得高Cr离化率的条件;对比HiPIMS-Cr膜层与传统工艺(电镀硬铬、直流磁控沉积溅射、电弧混合溅射等)制备的Cr膜层在表面形貌、微观组织和力学性能等方面的差异,概述不同工艺组合对Cr膜层沉积速率的影响,探讨不同影响因素对HiPIMS-Cr膜层的微观组织、力学性能的影响及相关研究进展.最后对HiPIMS-Cr膜层制备及其应用研究的趋势进行展望.
文献关键词：
Cr膜层;磁控溅射;高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS);组织;力学性能
中图分类号：
作者姓名：
丁啸云;张津;田修波;吴忠振;连勇
作者机构：
北京科技大学新材料技术研究院 北京 100083;哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室 哈尔滨 150006;北京大学深圳研究生院新材料学院 深圳 518055
文献出处：
引用格式：
[1]丁啸云;张津;田修波;吴忠振;连勇-.基于高功率脉冲磁控溅射的Cr膜层研究进展)[J].中国表面工程,2022(05):56-69
A类：
高离化率
B类：
高功率脉冲磁控溅射,膜层,耐高温,耐腐蚀,耐磨损性能,航空航天,武器装备,核电能源,电镀,镀硬铬,无污染,制备方式,物理气相沉积,沉积技术,结合力,HiPIMS,放电特性,沉积过程,传统工艺,电弧,表面形貌,微观组织,组织和力学性能,不同工艺,工艺组合,沉积速率
AB值：
0.227757
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