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高能脉冲磁控溅射低温制备晶态薄膜的研究进展
文献摘要：
高能脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)是一种新型的磁控溅射技术,以峰值功率密度高,金属离化率高为特点,与传统直流磁控溅射(DCMS)相比,表现出其独有的优势.晶态薄膜的制备以往通常采用高温沉积或者后续的热处理技术,不仅工艺复杂,而且容易造成能源损失.高度离化的脉冲等离子体使HiPIMS技术成功应用于晶态薄膜的沉积,极大地降低制备温度,简化制备工艺,扩展了基底材料的选择范围,提升了薄膜的应用空间.然而,针对HiPIMS低温制备晶态薄膜的系统研究较为缺乏,因此亟需对现有的研究结果进行整理、归纳、总结,对其进一步研究提供理论参考.基于晶态薄膜的低温制备,在详细介绍以Al2O3、VO2、TiO2为代表的晶态薄膜的HiPIMS低温沉积工艺及其结构性能的基础上,探讨薄膜低温结晶的机理,展望HiPIMS未来的研究方向和应用前景.
文献关键词：
HiPIMS;结晶薄膜;沉积温度;Al2O3;VO2;TiO2
中图分类号：
作者姓名：
白雪冰;蔡群;张旭海
作者机构：
东南大学材料科学与工程学院 南京 211189;东南大学江苏省先进金属材料重点实验室 南京 211189
文献出处：
引用格式：
[1]白雪冰;蔡群;张旭海-.高能脉冲磁控溅射低温制备晶态薄膜的研究进展)[J].中国表面工程,2022(05):105-115
A类：
DCMS,结晶薄膜
B类：
高能脉冲,低温制备,晶态薄膜,磁控溅射技术,HiPIMS,峰值功率,功率密度,密度高,离化率,直流磁控溅射,热处理技术,脉冲等离子体,成功应用,制备温度,制备工艺,基底材料,应用空间,Al2O3,VO2,TiO2,低温沉积,结构性能,低温结晶,沉积温度
AB值：
0.279743
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