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电弧离子镀弧斑运动对膜层质量影响分析
文献摘要：
随着薄膜材料在现代工业中的广泛应用,电弧离子镀技术已成为制备功能性膜层的重要方法,在航空航天方面主要面向于功能表面改性、复合材料表面金属化等领域.本文采用磁场控制电弧离子镀靶材表面的弧斑运动,在Ti靶上验证了弧斑在不同磁场下的运动状态,分析了弧斑的运动速度及运动范围.在五种磁场情况下制备TiN膜层,通过扫描电镜、能谱分析仪、台阶仪、X射线衍射仪等对TiN膜层的表面形貌、微观结构、成分元素、膜层厚度等进行了分析.结果发现,当磁场控制弧斑均匀地分布在整个Ti靶面,且弧斑运动速度加快时,膜层表面大颗粒数最少,膜层最厚,晶体择优生长方向为(111)晶面.
文献关键词：
电弧离子镀;弧斑;磁场;膜层分析
中图分类号：
作者姓名：
乔宏;李灿伦;蔺增;王松超;冯智猛;李绍杰;黄赟;靳兆峰
作者机构：
上海卫星装备研究所,上海200240;东北大学机械工程与自动化学院,辽宁 沈阳110819
文献出处：
引用格式：
[1]乔宏;李灿伦;蔺增;王松超;冯智猛;李绍杰;黄赟;靳兆峰-.电弧离子镀弧斑运动对膜层质量影响分析)[J].真空,2022(05):32-37
A类：
膜层分析
B类：
电弧离子镀,弧斑,质量影响,薄膜材料,现代工业,离子镀技术,航空航天,天方,功能表面,表面改性,表面金属化,磁场控制,靶材,场下,运动状态,运动速度,运动范围,TiN,能谱分析,表面形貌,膜层厚度,大颗粒,颗粒数,择优,优生,生长方向,晶面
AB值：
0.315883
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