典型文献
高功率脉冲反应磁控溅射CrNx涂层的放电特性与组分结构
文献摘要：
高功率脉冲反应磁控溅射技术具有放电等离子密度高、溅射材料离化率高和绕镀性好的特点,已被广泛用于金属氮化物强化涂层的设计制备,但受沉积过程实时在线诊断困难,决定涂层结构性能的关键等离子体特性尚不清晰.基于自主研制的高功率脉冲磁控溅射装备,采用Langmuir探针研究不同N2流量下CrNx涂层的反应等离子体放电特性与组分结构变化.固定溅射功率为3 kW,随着N2流量从10 mL/min增加至75 mL/min,放电峰值功率密度和电子能量分布函数中的高能电子比例均呈现先上升后降低趋势,在55 mL/min N2流量时达到最高值,其峰值功率密度为320 W/cm2.分析表明,当通入过量N2时,靶中毒程度加剧,因表面生成CrNx化合物的二次电子发射系数低于Cr,近基体区电子密度从3.9×1017/m3逐渐下降至2.2×1017/m3,低密度离子入射降低了沉积粒子的热扩散迁移长度,使得涂层呈现CrN(220)晶面择优柱状生长.
文献关键词：
高功率脉冲反应磁控溅射;CrNx涂层;放电特征;Langmuir探针;微结构
中图分类号：
作者姓名：
祁宇星;周广学;左潇;都宏;陈仁德;汪爱英
作者机构：
中国科学院宁波材料技术与工程研究所 宁波 315201;中国科学院大学材料与光电研究中心 北京 100049;中国科学技术大学纳米科学技术学院 苏州 215123
文献出处：
引用格式：
[1]祁宇星;周广学;左潇;都宏;陈仁德;汪爱英-.高功率脉冲反应磁控溅射CrNx涂层的放电特性与组分结构)[J].中国表面工程,2022(05):184-191
A类：
高功率脉冲反应磁控溅射,CrNx
B类：
放电特性,组分结构,磁控溅射技术,离子密度,密度高,离化率,氮化物,设计制备,沉积过程,实时在线诊断,涂层结构,结构性能,等离子体特性,自主研制,高功率脉冲磁控溅射,Langmuir,N2,等离子体放电,溅射功率,kW,峰值功率,功率密度,电子能量分布函数,先上,最高值,面生,二次电子发射系数,电子密度,入射,热扩散,层呈,晶面,择优,柱状,放电特征
AB值：
0.270201
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