典型文献
高离化磁控溅射技术及其工业应用
文献摘要：
磁控溅射技术发展至今已有40余年的历史,广泛应用在航空航天、武器装备、电子器件等领域,但较低的离化率对磁控溅射的工艺可控性、深孔沉积能力甚至涂层质量等有很大限制,高离化率一直是磁控溅射追寻的目标.从早期引入辅助增强装置,到高功率脉冲磁控溅射的提出,以及持续高功率技术的发展,高离化磁控溅射技术受到广泛关注.以高离化磁控溅射技术的发展为切入点,综述近年来该技术的发展迭代、应用现状以及面向各种应用的工业设备研发进程.高离化磁控溅射的发展可归纳为四个阶段,即辅助增强的磁控溅射、高功率脉冲磁控溅射、改进型高功率脉冲磁控溅射以及持续高功率磁控溅射.分别阐述不同阶段的技术特点和存在的问题,分析各技术的应用现状及其潜在的应用价值,介绍各技术的工业设备及其应用现状.随着工业发展对涂层长寿命、高可靠性的要求,以及市场对高效率制备的诉求,高离化磁控溅射也在朝着可控、精确、高效的方向发展,最后对高离化磁控溅射技术未来发展进行展望.
文献关键词：
高离化率;辅助增强离化;高功率脉冲;持续高功率溅射
中图分类号：
作者姓名：
马旻昱;刘亮亮;李体军;李熙腾;崔岁寒;吴忠振
作者机构：
北京大学深圳研究生院新材料学院 深圳 518055
文献出处：
引用格式：
[1]马旻昱;刘亮亮;李体军;李熙腾;崔岁寒;吴忠振-.高离化磁控溅射技术及其工业应用)[J].中国表面工程,2022(05):116-144
A类：
高离化率,辅助增强离化,持续高功率溅射
B类：
磁控溅射技术,工业应用,至今已有,航空航天,武器装备,电子器件,可控性,深孔,涂层质量,追寻,从早,高功率脉冲磁控溅射,工业设备,设备研发,改进型,工业发展,长寿命,高可靠性
AB值：
0.131081
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