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真空电弧源冷却结构对温度场的影响研究
文献摘要：
真空电弧离子镀技术是工业界使用最为广泛的表面处理技术之一.在电弧离子镀实际应用过程中,所制备涂层的表面大颗粒仍然是困扰高端制造的一大难题,造成这一现象的根本原因是靶材表面局部过热产生的液滴飞溅.减少液滴产生的有效方法有很多,除降低放电功率密度、提高弧斑运动速度等热端控制技术之外,还包括加强靶材的冷却等.本文将新型冷却结构和弧斑运动引入弧源的数值模型,对弧源内部冷却水的流场和靶材表面的温度场进行模拟分析,研究了不同边界条件下弧源温度场的变化规律.本文的研究结果对真空镀膜机设计与工艺开发具有一定的指导作用.
文献关键词：
弧源;冷却结构;温度场;靶面温度
中图分类号：
作者姓名：
刘兴龙;沈佩;王光文;岳向吉;蔺增
作者机构：
东北大学机械工程与自动化学院,辽宁 沈阳 110819;沈阳添和毅科技有限责任公司,辽宁 沈阳 110027;泰安东大新材表面技术有限公司,山东 泰安 271024;辽宁省植入器械与界面科学重点实验室,辽宁 沈阳 110819
文献出处：
引用格式：
[1]刘兴龙;沈佩;王光文;岳向吉;蔺增-.真空电弧源冷却结构对温度场的影响研究)[J].真空,2022(06):29-33
A类：
靶面温度
B类：
真空电弧,弧源,冷却结构,电弧离子镀,离子镀技术,工业界,表面处理技术,大颗粒,高端制造,靶材,局部过热,热产,液滴,飞溅,放电功率,电功率密度,弧斑,运动速度,数值模型,对弧,内部冷却,冷却水,不同边界,真空镀膜机,工艺开发
AB值：
0.355443
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