典型文献
HiPIMS沉积光电薄膜研究进展:放电特性和参数调控
文献摘要：
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术具有离化率高、等离子体密度高、沉积温度低、薄膜结构致密等优点,与沉积超硬耐磨涂层相比,HiPIMS技术在光电薄膜沉积中的应用相对较少,且HiPIMS镀膜过程中涉及工艺参数较多,工艺参数的选择直接影响着沉积薄膜的结构和性能.基于这两个问题,系统梳理HiPIMS在光电薄膜沉积中放电的时空演变特性,重点介绍HiPIMS技术在光电薄膜沉积过程中的关键工艺参数,包括峰值功率密度、衬底材料、掺杂、偏置电压等,对薄膜结构和性能的影响规律,最后展望HiPIMS技术在光电薄膜沉积中的应用前景与发展趋势.
文献关键词：
高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS);光电薄膜;等离子体;放电特性;参数调控
中图分类号：
作者姓名：
张海宝;刘洋;陈强
作者机构：
北京印刷学院等离子体物理与材料实验室 北京 102600
文献出处：
引用格式：
[1]张海宝;刘洋;陈强-.HiPIMS沉积光电薄膜研究进展:放电特性和参数调控)[J].中国表面工程,2022(05):93-104
A类：
B类：
HiPIMS,光电薄膜,放电特性,参数调控,高功率脉冲磁控溅射,离化率,等离子体密度,密度高,沉积温度,薄膜结构,耐磨涂层,薄膜沉积,镀膜,结构和性能,中放,时空演变,演变特性,沉积过程,关键工艺参数,峰值功率,功率密度,衬底,偏置电压
AB值：
0.270853
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