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基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术进展
文献摘要：
基于空间光调制器的无掩膜光刻是光刻技术重要发展方向之一.近年来,随着数字微镜器件芯片集成度与性能的提高,数字微镜器件无掩膜光刻成为一种主要的数字光刻技术.由于可灰度调制的光反射式"数字掩膜"替代了传统光刻中使用的预制物理光掩膜版,该技术极大地简化了光刻制版流程,提高了光刻的灵活性,广泛应用于平面微纳器件、超材料、微流控器件、组织生物研究等领域.从数字无掩膜光刻原理出发,简要介绍了典型匀光照明系统结构与微缩投影系统结构,进而介绍了面向平面光刻的空间分辨率增强技术、灰度光刻技术以及三维微立体光刻技术的进展.最后,列举了几类典型的数字无掩膜光刻应用,并对其发展方向进行了展望.
文献关键词：
无掩膜光刻;空间光调制器;数字微镜器件;分辨率增强;灰度光刻;微立体光刻
中图分类号：
作者姓名：
张思琪;周思翰;杨卓俊;许智;兰长勇;李春
作者机构：
电子科技大学光电科学与工程学院,四川成都011699;中国科学院物理研究所松山湖材料实验室,广东东莞523429
文献出处：
引用格式：
[1]张思琪;周思翰;杨卓俊;许智;兰长勇;李春-.基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术进展)[J].光学精密工程,2022(01):12-30
A类：
无掩膜光刻,光掩膜版,灰度光刻,微立体光刻
B类：
数字微镜器件,光刻技术,技术进展,空间光调制器,器件芯片,集成度,刻成,数字光刻,光反射,反射式,预制,理光,刻制,制版,微纳器件,超材料,微流控,匀光,照明系统,系统结构,微缩,投影系统,面光,空间分辨率,分辨率增强技术,几类
AB值：
0.222361
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