典型文献
先进计算光刻
文献摘要：
计算光刻是极大规模集成电路(IC)制造的核心技术之一.随着IC节点的不断下移,对于工艺的要求越来越严苛.计算光刻技术对推进光刻工艺进步做出了巨大贡献.然而,尽管计算机技术的发展为计算光刻技术的进步提供了有力的支持,但是计算光刻速度和精度之间互制的难题,考虑光刻系统、掩模、工艺误差情况下的计算光刻研究,仍需要学术团队与工业研发团队协同攻关.在简单回顾计算光刻的重要里程碑节点的基础上,重点概述作者团队在"先进计算光刻:快速、高稳定计算光刻"的研究进展,包括矢量计算光刻、快速计算光刻和多目标-高稳定矢量计算光刻.最后,对未来计算光刻技术的发展做出了展望,并期望本文能对我国集成电路领域的研发人员和工程师有所帮助.
文献关键词：
光刻;计算成像;逆向光刻;计算光刻;分辨率增强技术
中图分类号：
作者姓名：
袁淼;孙义钰;李艳秋
作者机构：
北京理工大学光电学院,北京100081
文献出处：
引用格式：
[1]袁淼;孙义钰;李艳秋-.先进计算光刻)[J].激光与光电子学进展,2022(09):161-176
A类：
计算光刻,逆向光刻
B类：
大规模集成电路,IC,下移,严苛,光刻技术,光刻工艺,巨大贡献,计算机技术,互制,掩模,工艺误差,学术团队,研发团队,团队协同,协同攻关,述作,高稳定,稳定计算,矢量计算,快速计算,研发人员,计算成像,分辨率增强技术
AB值：
0.243019
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