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高速并行双光子激光直写光刻系统
文献摘要：
双光子激光直写技术以其高精度、高灵活性的特点在科研领域被广泛应用,但较低的直写速度制约了其在工业领域的应用与发展.本团队基于转镜扫描系统设计并验证了一套高速双光子激光直写光刻系统,该系统基于空间光调制器与多通道声光调制器的联合调控,实现了六通道并行刻写功能,且每个通道可独立调控,调控频率可达MHz以上.实验结果表明,每通道直写速度最高可达7.770 m/s,刻写特征尺度最小为150 nm,并行刻写时的最高直写速度可达46.62 m/s.此外,本团队基于反射式像旋转器设计了一种高精度调节通道间距的方法,调节精度优于1 nm.
文献关键词：
光学制造;微纳加工;双光子激光直写;多光束并行制造
中图分类号：
作者姓名：
王洪庆;温积森;杨臻垚;汤孟博;孙秋媛;马程鹏;王子昂;詹兰馨;张晓依;曹春;沈小明;丁晨良;匡翠方
作者机构：
之江实验室智能芯片与器件研究中心,浙江杭州 310023;浙江大学光电科学与工程学院现代光学仪器国家重点实验室,浙江杭州 310027
文献出处：
引用格式：
[1]王洪庆;温积森;杨臻垚;汤孟博;孙秋媛;马程鹏;王子昂;詹兰馨;张晓依;曹春;沈小明;丁晨良;匡翠方-.高速并行双光子激光直写光刻系统)[J].中国激光,2022(22):115-122
A类：
双光子激光直写,多光束并行制造
B类：
光刻,激光直写技术,科研领域,工业领域,应用与发展,本团,空间光调制器,多通道,声光调制器,联合调控,六通,刻写,独立调控,MHz,写特征,特征尺度,反射式,像旋,通道间距,调节精度,光学制造,微纳加工
AB值：
0.287048
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