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基于空间光调制器的并行微纳光刻技术研究进展
文献摘要：
并行微纳光刻技术是实现微结构快速制造的重要技术手段.在简要介绍并行微纳光刻技术原理和优势的基础上,重点对基于空间光调制器的并行微纳光刻技术进行了分析和论述.按照对入射光场的调制作用,分多焦点和投影并行微纳光刻两类综述了其技术原理和研究进展.最后对两类基于空间光调制器的并行微纳光刻技术的现状及存在问题进行了归纳总结,并对它们的发展前景进行了展望.
文献关键词：
并行微纳光刻;微结构;空间光调制器;多焦点;投影并行
中图分类号：
作者姓名：
匡珺洁;罗宁宁;张静雅;王岩磊;熊鑫;孟庆旺
作者机构：
南昌航空大学江西省光电信息科学与技术重点实验室,江西南昌330063;南昌航空大学江西省光电检测技术工程实验室,江西 南昌330063
文献出处：
引用格式：
[1]匡珺洁;罗宁宁;张静雅;王岩磊;熊鑫;孟庆旺-.基于空间光调制器的并行微纳光刻技术研究进展)[J].激光与光电子学进展,2022(11):126-140
A类：
并行微纳光刻,投影并行
B类：
空间光调制器,光刻技术,技术原理,入射光,光场,多焦点
AB值：
0.09613
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