典型文献
步进扫描投影光刻机照明系统技术研究进展
文献摘要：
光刻技术是制造集成电路的核心技术,光刻机是制造集成电路的核心设备,照明系统是光刻机的核心部件之一.介绍了深紫外步进扫描投影光刻机照明系统的工作原理,重点分析了光瞳整形技术、光场匀化技术和偏振照明技术,归纳和概述了相关的技术原理和实现方法.
文献关键词：
光刻机照明系统;步进扫描投影;光瞳整形;光场匀化;偏振照明
中图分类号：
作者姓名：
刘佳红;张方;黄惠杰
作者机构：
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室,上海201800;中国科学院大学,北京100049
文献出处：
引用格式：
[1]刘佳红;张方;黄惠杰-.步进扫描投影光刻机照明系统技术研究进展)[J].激光与光电子学进展,2022(09):197-205
A类：
步进扫描投影,光刻机照明系统,光瞳整形,光场匀化,偏振照明
B类：
光刻技术,集成电路,核心部件,深紫外,照明技术,技术原理,实现方法
AB值：
0.099422
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