典型文献
基于数字微镜器件的无掩模数字光刻技术研究进展
文献摘要：
无掩模光刻技术具有无需物理掩模、成本低、适合大批量生产的优点,在微结构制作中得到了广泛应用.基于数字微镜器件(DMD)的无掩模数字光刻技术具有分辨率高、灵活性好、加工精度高等优势,成为近年来数字光刻领域的研究热点.综述了 DMD数字光刻技术的研究进展,包括基于DMD的扫描光刻技术、步进式光刻技术以及灰阶光刻技术,介绍了该方法在集成电路、微光学、三维打印等领域的应用,并总结了目前DMD光刻技术存在的问题及其未来发展趋势.
文献关键词：
光学设计;无掩模;数字微镜器件;扫描光刻技术;步进式光刻技术;灰阶光刻技术
中图分类号：
作者姓名：
谢芳琳;王雷;黄胜洲
作者机构：
安徽工程大学机械工程学院,安徽芜湖241000
文献出处：
引用格式：
[1]谢芳琳;王雷;黄胜洲-.基于数字微镜器件的无掩模数字光刻技术研究进展)[J].激光与光电子学进展,2022(11):141-150
A类：
扫描光刻技术,步进式光刻技术,灰阶光刻技术
B类：
数字微镜器件,无掩模,模数,数字光刻,大批量生产,DMD,分辨率高,加工精度,集成电路,微光,三维打印,技术存在,光学设计
AB值：
0.139594
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