典型文献
粉末靶磁控溅射ZnO/Cu/ZnO的制备及表征
文献摘要：
室温下,采用射频磁控溅射氧化锌(ZnO)粉末靶和铜(Cu)靶,在玻璃衬底上制备ZnO/Cu/ZnO透明导电薄膜.通过改变Cu层厚度,研究其对ZnO/Cu/ZnO薄膜光电性能的影响.结果表明:ZnO/Cu/ZnO表面相对平整,结晶程度较好,在可见光范围内,当Cu厚度为11 nm和14 nm时,ZnO/Cu/ZnO薄膜的最高透光率分别为79％和74％;当Cu厚度为14 nm时,其载流子浓度及带电粒子运动能力分别为4.85×1021 cm-3和6.73 cm2·V-1·s-1.与ZnO/Ag/ZnO薄膜相比,ZnO/Cu/ZnO需要更厚的铜薄膜才能连续,而具有较薄Ag层的ZnO/Ag/ZnO有比ZnO/Cu/ZnO更优良的光电性能.
文献关键词：
透明导电薄膜;粉末靶;射频磁控溅射;光电薄膜
中图分类号：
作者姓名：
李彤;赵卓;武俊生;方方;周艳文
作者机构：
辽宁科技大学化学工程学院,辽宁 鞍山114051;辽宁科技大学表面工程研究所,辽宁 鞍山114051
文献出处：
引用格式：
[1]李彤;赵卓;武俊生;方方;周艳文-.粉末靶磁控溅射ZnO/Cu/ZnO的制备及表征)[J].材料导报,2022(06):70-73
A类：
粉末靶
B类：
ZnO,射频磁控溅射,氧化锌,衬底,透明导电薄膜,光电性能,可见光,高透光率,载流子浓度,带电粒子,粒子运动,运动能力,Ag,光电薄膜
AB值：
0.189141
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
