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工艺参数对等离子增强磁控溅射TiAlN涂层微观结构及性能的影响
文献摘要：
本工作引入正交试验法,以等离子增强磁控溅射TiAlN涂层的润湿性为试验指标,探究靶功率、Ar/N2流量比和基体负偏压对试验指标的影响规律.使用能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和原子力显微镜(AFM)分析涂层的化学成分、晶体结构、微观形貌和表面粗糙度.通过测试接触角表征涂层的润湿性.极差分析结果表明,Al靶功率和Ar/N2流量比对涂层中Al含量的影响最敏感,基体负偏压是决定涂层的晶粒度、粗糙度及接触角的最主要因素.S2工艺制备的涂层具有最佳的疏水性能,接触角为120.25°.S9工艺制备的涂层具有最强的亲水性能,接触角仅为15.15°.研究结果可为工程应用涂层工艺的选择提供一定的参考依据和分析思路.
文献关键词：
正交试验法;等离子增强磁控溅射;TiAlN涂层;接触角
中图分类号：
作者姓名：
张亚南;周子超;张豪;肖宇琦;邓娜;付彬芸;多树旺
作者机构：
江西科技师范大学材料与机电学院,江西省材料表面工程重点实验室,南昌330013
文献出处：
引用格式：
[1]张亚南;周子超;张豪;肖宇琦;邓娜;付彬芸;多树旺-.工艺参数对等离子增强磁控溅射TiAlN涂层微观结构及性能的影响)[J].材料导报,2022(24):47-52
A类：
B类：
等离子增强磁控溅射,TiAlN,正交试验法,润湿性,试验指标,Ar,N2,流量比,负偏压,能谱仪,EDS,场发射扫描电子显微镜,FE,原子力显微镜,AFM,晶体结构,微观形貌,表面粗糙度,接触角,极差分析,晶粒度,S2,工艺制备,疏水性能,S9,亲水性能,涂层工艺,分析思路
AB值：
0.265439
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