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高光谱性能光学薄膜研究进展
文献摘要：
高光谱性能光学薄膜是国家重大光学工程、光电子产业的基石.为了提高光学薄膜的光学性能并开发精确制备技术,现有研究主要围绕设计理念、监控技术和薄膜材料等方面展开.目前,薄膜技术已经取得了长足进步,能实现高光谱性能光学薄膜的鲁棒性设计,多种基于高光谱性能光学薄膜的精确制备技术相继被提出.从薄膜设计、精确制备技术以及薄膜材料几方面出发,本文对现代高光谱性能光学薄膜研究进行了回顾和讨论,并对高性能光学薄膜潜在的挑战和进一步研究方向进行了展望.
文献关键词：
光学薄膜及器件;鲁棒性设计;光学监控;薄膜制备;计算制造
中图分类号：
作者姓名：
焦宏飞;汲小川;张锦龙;程鑫彬;王占山
作者机构：
同济大学物理科学与工程学院精密光学工程技术研究所,先进微结构材料教育部重点实验室,上海市数字光学前沿科学研究基地,上海市全光谱高性能光学薄膜器件与应用专业技术服务平台,上海200092
文献出处：
引用格式：
[1]焦宏飞;汲小川;张锦龙;程鑫彬;王占山-.高光谱性能光学薄膜研究进展)[J].光学精密工程,2022(21):2591-2607
A类：
光学薄膜及器件
B类：
高光谱,光谱性能,大光,光学工程,光电子产业,光学性能,精确制备,制备技术,监控技术,薄膜材料,膜技术,长足进步,鲁棒性设计,几方,光学监控,薄膜制备,计算制造
AB值：
0.24846
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