典型文献
极紫外-真空紫外薄膜光学元件研究
文献摘要：
极紫外-真空紫外高性能薄膜光学元件大幅提升了高精度观测能力,助力了天文、材料、物理等学科发展.同济大学精密光学工程技术研究所根据不同应用需求以及薄膜材料自身的物理化学特性,开展了针对高性能极紫外-真空紫外薄膜光学元件的广泛深入研究,成功研制了诸如Mg/SiC、Sc/Si、Yb/Al、Al+LiF+eMgF2、LaF3/MgF2等多种高性能薄膜反射镜,以满足极紫外-真空紫外(25～200 nm)全波段的应用需求,这些高性能薄膜反射镜已在诸多国内大型地面科学装置及空间天文观测设备中得到应用.简要介绍同济大学精密光学工程技术研究所在极紫外-真空紫外薄膜光学元件研制工作中取得的进展.
文献关键词：
X射线光学;极紫外-真空紫外;薄膜元件;窄带宽;稳定性;高反射率
中图分类号：
作者姓名：
齐润泽;张锦龙;吴佳莉;李双莹;黄秋实;张众;王占山
作者机构：
同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室,精密光学工程技术研究所,上海200092
文献出处：
引用格式：
[1]齐润泽;张锦龙;吴佳莉;李双莹;黄秋实;张众;王占山-.极紫外-真空紫外薄膜光学元件研究)[J].光学学报,2022(11):40-50
A类：
Al+LiF+eMgF2,薄膜反射镜
B类：
极紫外,真空紫外,薄膜光学,光学元件,同济大学,光学工程,应用需求,薄膜材料,物理化学,化学特性,SiC,Sc,Yb,LaF3,全波段,科学装置,天文观测,观测设备,薄膜元件,窄带宽,高反射率
AB值：
0.242977
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
