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940 nm滤光片的设计、制备及低角度效应的研究
文献摘要：
本文对人脸识别中使用的940 nm窄带滤光片进行设计及制备,研制一种具有低角度效应的窄带滤光片.选择TiO2、SiO2作为高、低折射率材料,在Essential Macleod软件中对膜系进行设计,通过改变间隔层材料对膜系进行优化,最终设计的膜系层数为11,膜系总厚度为2480.76 nm.采用电子束热蒸发沉积技术对薄膜进行镀制,使用傅里叶红外光谱仪完成透射率光谱特性测试.最终研制的滤光片中心波长为940 nm,在截止区间(200～1100 nm)内,通带透射率大于80％,平均截止透射率小于1％,0°～22°通带偏移量为14 nm.
文献关键词：
光学薄膜;窄带滤光片;人脸识别;角度效应
中图分类号：
作者姓名：
唐家建;沈龙海;仲维平;李想;罗皓
作者机构：
沈阳理工大学 理学院,辽宁 沈阳 110000
文献出处：
引用格式：
[1]唐家建;沈龙海;仲维平;李想;罗皓-.940 nm滤光片的设计、制备及低角度效应的研究)[J].红外技术,2022(10):1041-1044
A类：
B类：
低角,角度效应,人脸识别,窄带滤光片,TiO2,SiO2,折射率,Essential,Macleod,膜系,间隔层,层数,电子束,热蒸发,蒸发沉积,沉积技术,傅里叶红外光谱,红外光谱仪,透射率,光谱特性,中心波长,截止,通带,偏移量,光学薄膜
AB值：
0.3599
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