典型文献
全局曲线拟合实现高厚度检测分辨力的结构光照明显微术
文献摘要：
提出一种利用调制深度响应曲线的全局信息进行重叠峰识别的结构光照明显微术,采用有边界约束的最优化算法解析得到薄膜样本各表面的高度,进而实现厚度分辨力高、精度高、计算速度快的膜层厚度分布测量与表面形貌重构.根据仿真分析,在理想条件下所提方法可将厚度检测分辨力从483 nm提升至175 nm,并通过实验证明了所提方法可减少迭代次数,且具有较高的重复性精度.
文献关键词：
测量;光学检测;结构光照明显微术;光学薄膜;调制深度响应;厚度检测
中图分类号：
作者姓名：
杨可君;韩陈浩磊;刘磊;冯金花;谢仲业;胡松;唐燕
作者机构：
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川成都610209;中国科学院大学,北京100049;东莞理工学院电子工程与智能化学院,广东东莞523808
文献出处：
引用格式：
[1]杨可君;韩陈浩磊;刘磊;冯金花;谢仲业;胡松;唐燕-.全局曲线拟合实现高厚度检测分辨力的结构光照明显微术)[J].光学学报,2022(20):74-81
A类：
结构光照明显微术,调制深度响应
B类：
曲线拟合,厚度检测,分辨力,响应曲线,全局信息,重叠峰,有边,边界约束,最优化算法,计算速度,膜层厚度,厚度分布,表面形貌,迭代次数,重复性精度,光学检测,光学薄膜
AB值：
0.243964
相似文献
机标中图分类号，由域田数据科技根据网络公开资料自动分析生成，仅供学习研究参考。
