典型文献
基于双掩模光刻机的真空复印机构与工艺研究
文献摘要：
介绍了双面光刻机的类型、工作原理及特点,研究分析了双掩模光刻机的曝光方式,提出了一种通过改进曝光模式、提高双掩模光刻机曝光分辨率及基片曝光线条均匀性的方法,并通过生产线工艺验证及数据分析,得出通过该工艺曝光模式,满足生产线实际工艺要求.
文献关键词：
双面光刻机;曝光方式;曝光工艺;真空复印
中图分类号：
作者姓名：
芦刚;毛善高;李顺
作者机构：
中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京 100176
文献出处：
引用格式：
[1]芦刚;毛善高;李顺-.基于双掩模光刻机的真空复印机构与工艺研究)[J].电子工业专用设备,2022(01):25-29,70
A类：
真空复印,双面光刻机
B类：
掩模,复印机,原理及特点,曝光方式,曝光模式,基片,光线,线条,生产线,工艺验证,工艺要求,曝光工艺
AB值：
0.245726
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