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氢退火工艺对非晶硅光学性能的影响
文献摘要：
阐述利用等离子化学气相沉积制备了非晶硅材料,然后在不同浓度的氢气气氛下进行了等离子退火处理,并对其折射率,消光系数和傅立叶红外吸收谱进行了测试分析.结果显示,不同浓度的氢气氛等离子退火处理对非晶硅材料的光学性能有影响.
文献关键词：
非晶硅;等离子化学气相沉积;退火;折射率;消光系数;傅立叶红外吸收谱
中图分类号：
作者姓名：
曾璞;罗杰平;刘从吉;罗丹;袁菲;罗辉;王兴伦;王路;钱煜;关晟
作者机构：
西南技术物理研究所,四川 610041;四川航空股份有限公司,四川 610225
文献出处：
引用格式：
[1]曾璞;罗杰平;刘从吉;罗丹;袁菲;罗辉;王兴伦;王路;钱煜;关晟-.氢退火工艺对非晶硅光学性能的影响)[J].集成电路应用,2022(01):43-45
A类：
等离子化学气相沉积,傅立叶红外吸收谱
B类：
退火工艺,非晶硅,硅光,光学性能,硅材料,氢气,气气,退火处理,折射率,消光系数,测试分析
AB值：
0.164964
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