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基于硅外延片用石墨基座的温度均匀性研究
文献摘要：
通过对电磁感应加热的硅外延化学气相沉积反应腔室建立理论分析模型,结合工程实验对比,研究了不同石墨材料和不同基座结构对基座表面温度均匀性的影响.结果显示,在工程中,选择合适的石墨材料、设计合适的基座结构对硅外延片电阻率均匀性有着很大的影响,但在提升产品质量的同时也要平衡经济效益.
文献关键词：
电磁感应;石墨基座;石墨材料;基座结构;电阻率均匀性
中图分类号：
作者姓名：
冯永平;何文俊;任凯
作者机构：
南京国盛电子有限公司,南京 211153
文献出处：
引用格式：
[1]冯永平;何文俊;任凯-.基于硅外延片用石墨基座的温度均匀性研究)[J].电子与封装,2022(04):59-63
A类：
石墨基座,电阻率均匀性
B类：
硅外延片,温度均匀性,电磁感应加热,化学气相沉积,腔室,理论分析模型,工程实验,实验对比,石墨材料,基座结构,表面温度,提升产品质量
AB值：
0.221776
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