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极紫外光刻快速掩模优化方法
文献摘要：
提出了一种快速的极紫外光刻像素化掩模优化方法.优化过程中采用改进的像素化快速厚掩模模型,根据掩模像素尺寸设置边界像素上点脉冲的大小.以双重边界演化方法为基础,在每轮优化时,根据当前光刻胶轮廓与目标图形轮廓的差异自适应地对优化变量进行初始化,利用先验信息生成初始个体和种群,从而提高优化效率.以一维线空图形和二维复杂图形为例进行了仿真验证,结果表明该方法有效提高了掩模成像仿真精度,两种二维掩模图形的优化效率得到明显提高.
文献关键词：
衍射;极紫外光刻;厚掩模模型;掩模优化
中图分类号：
作者姓名：
张子南;李思坤;王向朝;成维
作者机构：
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室,上海201800;中国科学院大学材料与光电研究中心,北京100049
文献出处：
引用格式：
[1]张子南;李思坤;王向朝;成维-.极紫外光刻快速掩模优化方法)[J].光学学报,2022(13):25-34
A类：
厚掩模模型
B类：
极紫外光刻,掩模优化,像素化,上点,演化方法,光刻胶,胶轮,标图,优化变量,初始化,先验信息,高优,优化效率,空图,复杂图形,仿真验证,成像仿真,仿真精度
AB值：
0.266683
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