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蓝宝石化学机械抛光液的研究进展
文献摘要：
简介了蓝宝石化学机械抛光(CMP)的基本原理,从磨料、pH调节剂、表面活性剂、配位剂和其他添加剂方面概述了近年来蓝宝石CMP体系的研究进展,展望了蓝宝石CMP体系未来的研究方向.
文献关键词：
蓝宝石;化学机械抛光;抛光液;磨料;添加剂;综述
中图分类号：
作者姓名：
屈明慧;牛新环;侯子阳;张银婵;朱烨博;闫晗;罗付
作者机构：
河北工业大学电子信息工程学院,天津市电子材料与器件重点实验室,天津 300130
文献出处：
引用格式：
[1]屈明慧;牛新环;侯子阳;张银婵;朱烨博;闫晗;罗付-.蓝宝石化学机械抛光液的研究进展)[J].电镀与涂饰,2022(03):211-216
A类：
B类：
蓝宝石,石化,化学机械抛光,抛光液,简介,CMP,磨料,调节剂,表面活性剂,配位剂
AB值：
0.242192
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