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氧化态对锗衬底表面质量的影响
文献摘要：
锗衬底主要用于制备砷化镓太阳电池,在航天器电源及地面聚光太阳电池系统中有着广泛的应用.为进一步提高电池转换效率,对锗衬底的表面质量提出了更高的要求.研究了 HF/H2O2/H2O清洗液体系中氧化剂H2O2体积分数对锗衬底及外延片表面质量的影响.随着氧化反应的不断进行,在锗衬底表面形成一层非晶态不溶性GeOx薄膜,从而实现了锗衬底较好的钝化和更加稳定的表面终结,并通过外延生长进行了工艺验证.通过高分辨率X射线光电子能谱(XPS)对锗衬底表面氧化态进行测试及分峰拟合并模拟计算,当1.2＜x＜1.4时,对应体积比的HF/H2O2/H2O清洗液钝化效果较好.
文献关键词：
双氧水;锗衬底;表面质量;氧化态;X射线光电子能谱(XPS)
中图分类号：
作者姓名：
何远东;张伟才;杨洪星;韩焕鹏
作者机构：
中国电子科技集团公司第四十六研究所,天津 300220
文献出处：
引用格式：
[1]何远东;张伟才;杨洪星;韩焕鹏-.氧化态对锗衬底表面质量的影响)[J].半导体技术,2022(08):602-605,648
A类：
B类：
氧化态,锗衬底,表面质量,砷化镓,太阳电池,航天器,聚光,电池系统,转换效率,HF,H2O2,清洗液,氧化剂,氧化反应,非晶态,GeOx,外延生长,长进,工艺验证,光电子能谱,XPS,表面氧化,分峰拟合,体积比,钝化效果,双氧水
AB值：
0.295965
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