典型文献
磷/硼共掺杂纳米硅的微观结构与光电性质
文献摘要：
采用射频(RF)等离子体增强化学气相沉积系统制备了硅/二氧化硅多层膜样品,在异质结限制性晶化作用下得到了尺寸均匀的磷/硼共掺杂纳米硅.通过拉曼光谱(Raman)、透射电镜(TEM)和X射线光电子能谱(XPS)研究了磷/硼共掺杂纳米硅/二氧化硅多层膜的微观结构和杂质的分布特点.低温电子顺磁共振(EPR)结果表明,磷、硼杂质可以改变纳米硅的表面化学结构并充分钝化表面处的非辐射复合缺陷.Hall效应测试发现磷和硼杂质可替位式地掺入到纳米硅的内部,且磷杂质具有更高的掺杂效率;通过改变磷硼杂质的掺杂比例可以调控纳米硅的导电类型和载流子浓度.在小尺寸磷/硼共掺杂纳米硅中获得了1200 nm处满足光通信波段的近红外发光,并通过调控磷的掺杂浓度实现了近红外发光的增强.通过时间分辨荧光光谱测试,结合EPR结果探讨了磷掺杂对纳米硅内部辐射复合和非辐射复合过程的调控使1200 nm发光增强的物理机制.
文献关键词：
纳米硅;掺杂;微结构;电子顺磁共振;霍尔效应;光致发光;光电性质
中图分类号：
作者姓名：
李东珂;陈佳明;孙腾;翟章印;陈贵宾
作者机构：
淮阴师范学院物理与电子电气工程学院,淮安 223300;南京大学电子科学与工程学院,固体微结构物理国家重点实验室,南京 210023
文献出处：
引用格式：
[1]李东珂;陈佳明;孙腾;翟章印;陈贵宾-.磷/硼共掺杂纳米硅的微观结构与光电性质)[J].人工晶体学报,2022(01):35-41
A类：
B类：
共掺杂,纳米硅,光电性质,RF,等离子体增强化学气相沉积,统制,二氧化硅,多层膜,异质结,限制性,晶化,下得,拉曼光谱,Raman,透射电镜,TEM,光电子能谱,XPS,电子顺磁共振,EPR,表面化学,化学结构,钝化,非辐射复合,复合缺陷,Hall,掺入,掺杂比例,载流子浓度,小尺寸,光通信,通信波段,近红外发光,掺杂浓度,通过时间,时间分辨荧光,荧光光谱,磷掺杂,光增强,物理机制,霍尔效应,光致发光
AB值：
0.350635
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