典型文献
半导体洁净室AMC控制过程的管理
文献摘要：
阐述随着集成电路制造过程中的制程要求越来越高,AMC在生产过程中对良率会产生影响,AMC的控制不应仅仅生产运行时考虑,更应在项目规划、项目建设时期就要详细设计,从而为集成电路制造的生产运行创造良好的基础条件.探讨集成电路制造项目的选址、建设材料的选用、空气与化学污染的处理、日常监测运行,为Fab生产运行提供良好的环境保证.
文献关键词：
集成电路制造;半导体洁净室;空气分子污染;AMC;污染物控制;环境监测
中图分类号：
作者姓名：
钱刚
作者机构：
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司,上海 201808
文献出处：
引用格式：
[1]钱刚-.半导体洁净室AMC控制过程的管理)[J].集成电路应用,2022(07):41-44
A类：
半导体洁净室,空气分子污染
B类：
AMC,控制过程,集成电路制造,制造过程,制程,良率,生产运行,项目规划,详细设计,基础条件,建设材料,化学污染,日常监测,Fab,污染物控制,环境监测
AB值：
0.244494
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