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基于全球离子注入机行业现状探析中国离子注入机突破之路
文献摘要：
离子注入是集成电路制造工艺中十分重要的环节.离子注入属于物理过程,是通过调节剂量、射程、注入角度等三大重要参数,来精确控制掺杂并实现数量与质量的可控,最后通过材料的电子阻碍和核阻碍等能量损耗机制实现其在靶材内的驻留.本文阐述了离子注入机产业发展状况和当前全球竞争格局,简述了离子注入机的工作原理,分析了离子注入机供应链关键环节并对国内企业发展离子注入机的发展提出建议,为我国离子注入机产业发展寻求突破之路提供新思路.
文献关键词：
离子注入机、集成电路;产业布局;发展建议
中图分类号：
作者姓名：
池宪念
作者机构：
中国电子信息产业发展研究院赛迪顾问股份有限公司,北京 100081
文献出处：
引用格式：
[1]池宪念-.基于全球离子注入机行业现状探析中国离子注入机突破之路)[J].电子元器件与信息技术,2022(01):46-47
A类：
B类：
离子注入机,行业现状,现状探析,集成电路制造,制造工艺,物理过程,调节剂,射程,重要参数,精确控制,能量损耗,靶材,驻留,全球竞争格局,国内企业,产业布局
AB值：
0.199366
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