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集群式PVD设备控制系统 研究与设计
文献摘要：
集群式PVD设备具有产能高、污染控制好、工艺配置灵活等特点,广泛应用于集成电路、MEMS、光学薄膜等半导体晶圆制造薄膜沉积工序.本文针对集群式PVD设备结构和工艺特征进行研究,设计一套满足晶圆传输、定向、烘烤、沉膜等功能控制系统,详细阐述设备各模块功能,控制系统软硬件设计及实现.
文献关键词：
群集式PVD设备;控制系统;PLC;监控软件
中图分类号：
作者姓名：
罗超;李明;范江华;佘鹏程;石任凭
作者机构：
中国电子科技集团公司第四十八研究所
文献出处：
引用格式：
[1]罗超;李明;范江华;佘鹏程;石任凭-.集群式PVD设备控制系统 研究与设计)[J].中国集成电路,2022(10):72-75
A类：
B类：
集群式,PVD,设备控制,研究与设计,污染控制,工艺配置,集成电路,MEMS,光学薄膜,半导体晶圆,晶圆制造,薄膜沉积,设备结构,工艺特征,烘烤,模块功能,软硬件设计,群集,PLC,监控软件
AB值：
0.470385
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