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界面电荷对圆柱形高kVDMOS的影响仿真研究
文献摘要：
相比于传统VDMOS,超结耐压层结构和高k介质耐压层结构VDMOS能实现更高的击穿电压和更低的导通电阻.通过仿真软件,对3D圆柱形高k VDMOS具有、不具有界面电荷下的各种结构参数对电场分布、击穿电压和比导通电阻的影响进行了系统总结.研究和定性分析了击穿电压和比导通电阻随参数的变化趋势及其原因.对比导通电阻和击穿电压的折中关系进行了优化.该项研究对高k VDMOS的设计具有参考价值.
文献关键词：
高介电常数耐压层;界面电荷;击穿电压;比导通电阻
中图分类号：
作者姓名：
刘乙
作者机构：
西南交通大学电子工程系集成电路设计实验室,成都610000
文献出处：
引用格式：
[1]刘乙-.界面电荷对圆柱形高kVDMOS的影响仿真研究)[J].微电子学,2022(01):109-114
A类：
kVDMOS,高介电常数耐压层
B类：
界面电荷,电荷对,圆柱形,仿真研究,超结,介质耐压,击穿电压,有界,电场分布,比导通电阻,折中
AB值：
0.163384
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