典型文献
共溅射法制备AlSb薄膜及其性质研究
文献摘要：
使用Al、Sb单质靶材,采用共溅射法制备Al、Sb薄膜,并进行原位退火处理以获得AlSb薄膜.采用X射线衍射仪(XRD)和俄歇电子能谱(AES)分别分析了该薄膜的结构和元素的深度剖析及化学价态.结果表明:共溅射制备的AlSb薄膜呈立方相结构,沿(111)晶向择优取向.共溅射制备的AlSb薄膜表面含有Al、C、Sb和O元素,其中Al元素显示电正性,Sb元素显示电负性.
文献关键词：
AlSb;共溅射;AES
中图分类号：
作者姓名：
常璐;刘竞艳;王朋伟;田弋纬
作者机构：
西安汉唐分析检测有限公司,陕西 西安710016
文献出处：
引用格式：
[1]常璐;刘竞艳;王朋伟;田弋纬-.共溅射法制备AlSb薄膜及其性质研究)[J].热加工工艺,2022(12):77-79
A类：
B类：
共溅射,溅射法,AlSb,单质,靶材,原位退火,退火处理,电子能谱,AES,深度剖析,价态,方相,相结构,晶向,择优取向,正性,电负性
AB值：
0.328543
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