典型文献
Si含量对NbN/TiSiN纳米多层膜微观结构和韧性的影响
文献摘要：
采用磁控溅射工艺在硅基底上交替沉积NbN和TiSiN纳米层,通过改变靶材的Si含量,制备出一系列NbN/TiSiN纳米多层膜.采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、高分辨透射电镜(HRTEM)和纳米压痕仪研究Si含量对NbN/TiSiN纳米多层膜微观结构和力学性能的影响.结果表明:随着Si含量的增加,NbN相的结晶程度先增加后降低,薄膜的硬度、弹性模量和韧性也呈现出先增加后降低的趋势,当Si∶Ti=3∶22时,NbN/TiSiN纳米多层膜的硬度、弹性模量和韧性最高,分别为24.8 GPa、280.2 GPa和1.89 MPa·m1/2.结构表征表明:当Si ∶Ti=3 ∶22时,NbN/TiSiN纳米多层膜的柱状晶生长状况最好,TiSiN层在NbN层的模板作用下转变为面心立方结构,并与NbN层呈共格外延生长.
文献关键词：
NbN/TiSiN纳米多层膜;磁控溅射;微观结构;共格外延;韧性
中图分类号：
作者姓名：
蔡莹芸;王静静;康开;岳建岭;李伟;马迅
作者机构：
上海理工大学材料与化学学院,上海 200093;浙江浙能电力股份有限公司,浙江杭州 310007;中南大学粉末冶金研究院,湖南长沙 410083
文献出处：
引用格式：
[1]蔡莹芸;王静静;康开;岳建岭;李伟;马迅-.Si含量对NbN/TiSiN纳米多层膜微观结构和韧性的影响)[J].材料热处理学报,2022(08):161-169
A类：
共格外延
B类：
NbN,TiSiN,多层膜,磁控溅射,射工,硅基底,上交,靶材,透射电镜,HRTEM,纳米压痕,压痕仪,弹性模量,GPa,m1,结构表征,柱状晶,生长状况,面心立方,层呈,外延生长
AB值：
0.222446
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