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磁控溅射沉积银薄膜/涂层的研究进展
文献摘要：
银薄膜/涂层是一种在高新技术领域极具潜力的新材料,近年来在现代工业中得到了广泛的应用.采用磁控溅射制备的银薄膜/涂层具有优异的附着力,通过选择相应的沉积参数可以实现对银薄膜/涂层微观结构及性能的调控.本文综述了磁控溅射沉积银薄膜/涂层的主要制备工艺,评述了银薄膜/涂层在其主要应用领域内的研究进展,并对其未来的发展进行了展望.
文献关键词：
磁控溅射;银薄膜/涂层;显微结构;应用
中图分类号：
作者姓名：
宁哲达;王一晴;陈天天;谭志龙;闻明
作者机构：
昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室,云南 昆明650106
文献出处：
引用格式：
[1]宁哲达;王一晴;陈天天;谭志龙;闻明-.磁控溅射沉积银薄膜/涂层的研究进展)[J].稀有金属材料与工程,2022(12):4773-4782
A类：
B类：
磁控溅射,溅射沉积,银薄膜,技术领域,现代工业,附着力,制备工艺,主要应用,显微结构
AB值：
0.17837
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