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磁控溅射制备大面积ZnO薄膜性能的研究
文献摘要：
通过磁控溅射氧化锌陶瓷靶材的方法在玻璃基片上制备ZnO薄膜,研究了溅射功率、溅射气压以及基片温度对ZnO薄膜相结构、禁带宽度及光学性能的影响.使用X射线衍射仪(XRD)分析了薄膜相结构,使用台阶仪测试薄膜厚度,采用薄膜测试仪测试薄膜的透过率,采用扫描电镜(SEM)观察薄膜表面形貌.结果表明:不同制备条件下均形成具有(002)择优取向的ZnO薄膜;工艺参数主要对薄膜的透过率造成影响;溅射功率的大小影响生成薄膜的完整性.
文献关键词：
磁控溅射;ZnO薄膜;透过率
中图分类号：
作者姓名：
刘沅东
作者机构：
北京市电子科技情报研究所,北京, 100009
文献出处：
引用格式：
[1]刘沅东-.磁控溅射制备大面积ZnO薄膜性能的研究)[J].真空,2022(01):29-32
A类：
B类：
磁控溅射,ZnO,膜性能,氧化锌,靶材,玻璃基,基片,溅射功率,溅射气压,相结构,禁带宽度,光学性能,薄膜厚度,测试仪,透过率,表面形貌,制备条件,择优取向,造成影响,小影
AB值：
0.327049
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