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溅射羽辉与基底夹角对掺氧二硫化钼薄膜光学性质的影响
文献摘要：
二硫化钼(MoS2)在环境中的热稳定性和化学稳定性好,迁移率相对较高,已应用于气体传感器、光电探测器和场效应管等器件的研制.采用氧气辅助技术生长的氧掺杂MoS2(MoS2-x Ox)不仅可以调控MoS2单晶尺寸,还能提高MoS2单晶光致发光强度.本文采用射频反应磁控溅射技术、自然环境中氧化和热退火工艺,改变溅射羽辉与玻璃基底夹角来制备MoS2-x Ox薄膜并研究其光学性质.采用X射线光电子能谱分析了样品的元素和价态;扫描电子显微镜观测的结果表明,溅射羽辉与基底成45°(θ=45°)时表面形貌为最优;紫外-可见分光光度计的测试结果表明,随着厚度和氧含量的增加,MoS2-x Ox薄膜的光学带隙减小;采用COMSOL Multiphysics软件模拟了MoS2-x Ox薄膜光学透过率,理论和实验结果相吻合.本文的研究结果将为MoS2-x Ox薄膜在光学领域的应用提供科学参考.
文献关键词：
掺氧二硫化钼;氧气辅助技术;磁控溅射;羽辉;透过率;光学带隙;COMSOL
中图分类号：
作者姓名：
赵子楠;武金涛;梁智健;朱亚彬;刘歌;陈云琳
作者机构：
北京交通大学物理科学与工程学院,物理系,北京 100044;北京交通大学物理科学与工程学院,微纳材料及应用研究所,北京 100044
文献出处：
引用格式：
[1]赵子楠;武金涛;梁智健;朱亚彬;刘歌;陈云琳-.溅射羽辉与基底夹角对掺氧二硫化钼薄膜光学性质的影响)[J].人工晶体学报,2022(11):1871-1877
A类：
掺氧二硫化钼,氧气辅助技术
B类：
羽辉,夹角,二硫化钼薄膜,薄膜光学,光学性质,MoS2,热稳定性,化学稳定性,迁移率,气体传感器,光电探测器,场效应管,氧掺杂,Ox,单晶,光致发光,发光强度,反应磁控溅射,磁控溅射技术,热退火,退火工艺,玻璃基,光电子能谱分析,元素和,价态,表面形貌,分光光度计,氧含量,光学带隙,COMSOL,Multiphysics,软件模拟,透过率,相吻合
AB值：
0.27628
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