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黑曲霉菌对Ge镀增透膜层的腐蚀行为研究
文献摘要：
为开发新型保护膜系和光学系统的防霉设计提供数据支撑,了解Ge镀增透膜层在黑曲霉环境下的腐蚀行为,有助于提高红外窗口材料的环境适应性.通过霉菌加速试验,采用荧光显微镜、扫描电镜、X射线光电子能谱等,研究黑曲霉菌对Ge镀增透膜层样品的腐蚀行为及影响规律.黑曲霉菌为产酸型微生物,在稳定期时,它的生物量最高,细胞代谢产物的积累达到高峰,在对数生长阶段,由其引起的生长环境 pH值变化显著,增加了环境的酸度;黑曲霉菌初始以 Ge 镀增透膜层样品表层吸附的碳元素为营养粘附于样品表面,并在样品表面大量繁殖,消耗样品表层的碳含量,随着黑曲霉菌的大量繁殖,样品表面的pH值也随之降低,样品表面的金属元素被氧化,开始逐步溶解,Ge镀增透膜层样品表层的锗元素、锌元素相继被剥离,参与反应后,样品的表层形貌被破坏严重,形成了大量的腐蚀坑.黑曲霉菌对 Ge 镀增透膜层的腐蚀行为以点蚀方式为主,它的生长代谢作用促进 Ge 镀增透膜层的腐蚀.
文献关键词：
黑曲霉菌;Ge镀增透膜层;腐蚀行为
中图分类号：
作者姓名：
戈帆;郭骞;肖建军;刘剑;杨玉萍;王冲文;刘艳芳;罗瑞;赵远荣;杨品杰;刘云红
作者机构：
云南北方光电仪器有限公司,云南 昆明 650114;云南西双版纳大气环境材料腐蚀国家野外科学观测研究站,云南 昆明 650114;西双版纳大气环境材料腐蚀云南省野外科学观测研究站,云南 昆明 650114
文献出处：
引用格式：
[1]戈帆;郭骞;肖建军;刘剑;杨玉萍;王冲文;刘艳芳;罗瑞;赵远荣;杨品杰;刘云红-.黑曲霉菌对Ge镀增透膜层的腐蚀行为研究)[J].红外技术,2022(11):1228-1235
A类：
表层吸附,表层形貌
B类：
黑曲霉菌,Ge,增透膜,膜层,腐蚀行为,开发新,保护膜,膜系,光学系统,防霉,外窗,环境适应性,加速试验,荧光显微镜,光电子能谱,产酸,稳定期,生物量,细胞代谢,代谢产物,生长阶段,生长环境,酸度,碳元素,粘附,碳含量,金属元素,锗元素,锌元素,腐蚀坑,点蚀,生长代谢,代谢作用
AB值：
0.237095
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