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腔面镀膜对1342nm分布反馈半导体激光器输出功率的影响
文献摘要：
为提高1342 nm分布反馈(Distributed Feedback,DFB)半导体激光器的输出功率,设计了三种腔面膜膜系组合.采用电子束蒸发镀膜技术对该激光器进行了腔面镀膜,并测试了其在三种膜系组合下的输出功率.结果表明,采用增透膜为基底(Sub)/Al2O3/Ta2O5/空气(Air)、高反膜为 Sub/(Al2O3/Si)3Al2O3/Air的腔面膜膜系组合时,激光器的输出功率最高.前腔面反射率为0.2％,后腔面反射率为98.6％.在260 mA的直流电流下,平均输出功率达到了 85 mW以上(增加了 85.6％),斜率效率提升了 82.9％.通过采用此膜系组合进行激光器腔面镀膜,可以大幅提升1342 nmDFB半导体激光器的输出功率.
文献关键词：
1342 nm;分布反馈;腔面镀膜;输出功率
中图分类号：
作者姓名：
张煜俊;闫长春;陈建抗;赵春龙;罗帅;徐鹏飞;李璇
作者机构：
江苏师范大学物理与电子工程学院,江苏徐州 221116;江苏华兴激光科技有限公司,江苏徐州 221300
文献出处：
引用格式：
[1]张煜俊;闫长春;陈建抗;赵春龙;罗帅;徐鹏飞;李璇-.腔面镀膜对1342nm分布反馈半导体激光器输出功率的影响)[J].红外,2022(11):26-32
A类：
1342nm,nmDFB
B类：
腔面镀膜,分布反馈半导体激光器,Distributed,Feedback,面膜,膜系,电子束蒸发,膜技术,增透膜,Sub,Ta2O5,Air,Si,3Al2O3,反射率,mA,直流电流,流下,平均输出功率,功率达,mW
AB值：
0.262456
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