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高温外延炉温度控制的设计与应用
文献摘要：
针对碳化硅外延工艺过程中温度控制精度对外延膜厚均匀性影响较大,本文介绍了一种用于感应加热碳化硅高温外延炉及温度控制系统.通过分析碳化硅外延工艺对温度控制的要求,设计了一套温度控制系统.在国产碳化硅外延设备上进行验证,实验结果表明温度控制系统具有较快的响应速度和较低的超调量,效果良好,能满足碳化硅高速外延需求.
文献关键词：
碳化硅;中频感应加热;温度控制;PID
中图分类号：
作者姓名：
毛朝斌;唐卓睿;伍三忠;罗骞
作者机构：
季华实验室
文献出处：
引用格式：
[1]毛朝斌;唐卓睿;伍三忠;罗骞-.高温外延炉温度控制的设计与应用)[J].中国集成电路,2022(11):59-62
A类：
B类：
炉温,碳化硅,硅外延,外延工艺,工艺过程,控制精度,膜厚均匀性,温度控制系统,外延设备,响应速度,超调量,高速外延,中频感应加热,PID
AB值：
0.28325
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