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曝光剂量精度误差分析研究
文献摘要：
曝光剂量精度是光刻工艺中重要的控制参数,从剂量控制模型出发,分析了影响剂量精度的因素并建立误差模型,进一步将需求指标分解到各误差项,作为剂量控制系统的设计输入;通过试验测试剂量精度和重复精度满足设计需求,验证了剂量误差模型的准确性.
文献关键词：
剂量精度;剂量重复精度;曝光剂量;线宽均匀性
中图分类号：
作者姓名：
高爱梅;宫晨;张乾;黄晓鹏
作者机构：
中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京 100176
文献出处：
引用格式：
[1]高爱梅;宫晨;张乾;黄晓鹏-.曝光剂量精度误差分析研究)[J].电子工业专用设备,2022(05):10-12,23
A类：
剂量精度,剂量重复精度,线宽均匀性
B类：
曝光剂量,精度误差,误差分析,光刻工艺,控制参数,剂量控制,控制模型,误差模型,指标分解,误差项,试验测试,设计需求
AB值：
0.256866
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