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激光辅助化学气相沉积研究进展
文献摘要：
激光化学气相沉积技术(LCVD)相较于传统化学气相沉积技术具有低沉积温度、高膜层纯度、高沉积效率等特点,在各类功能薄膜材料制备上有着巨大的应用前景.围绕激光化学气相沉积技术,本文详细阐述了激光热解离、激光光解离与激光共振激发解离作用机制,同时介绍了各类LCVD的常用设备,着重总结了LCVD在金属材料、碳基材料、氧化物材料以及半导体材料等各类材料制备应用上的最新研究进展,特别介绍了LCVD制备过程中常用的检测与分析方法,最后讨论了激光化学气相沉积技术目前所面临的挑战与机遇,并展望了该技术的发展前景.
文献关键词：
激光化学气相沉积;薄膜制备;热解离;光解离;共振激发解离
中图分类号：
作者姓名：
范丽莎;刘帆;吴国龙;Volodymyr S.Kovalenko;姚建华
作者机构：
浙江工业大学激光先进制造研究院,浙江 杭州 310023;浙江工业大学机械工程学院,浙江 杭州 310023;高端激光制造装备省部共建协同创新中心,浙江 杭州 310023;乌克兰国立科技大学激光技术研究所,乌克兰 基辅 03056
文献出处：
引用格式：
[1]范丽莎;刘帆;吴国龙;Volodymyr S.Kovalenko;姚建华-.激光辅助化学气相沉积研究进展)[J].光电工程,2022(02):前插1-前插2,1-29
A类：
激光化学气相沉积,LCVD,激光光解,共振激发解离
B类：
激光辅助,沉积技术,传统化,低沉,沉积温度,膜层,沉积效率,功能薄膜,薄膜材料,材料制备,光热,热解离,光解离,金属材料,碳基材料,半导体材料,最新研究进展,别介,制备过程,检测与分析,挑战与机遇,薄膜制备
AB值：
0.215107
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